B.电晕处理强度越小,出现膜表面反弹张力反弹现象较早;但电晕处理强度大者反弹程度大。 C.相同的添加剂,加入配比大者表面张力出现反弹早,但配比较小者表面张力反弹程度大。 D.迁移性能较强的添加剂会出现表面张力反弹现象,而反弹的程度较大。 E.环境温度越高出现反弹的机会越大;而温度低到一定程度很难观测到反弹现象。 这种反弹现象,我们又做了许多关于膜表面静电变化的图,下面列举一例见21表:测试日期5.8 5.95.10 5.205.316.186.287.47.10表面张力46 41 39393838383838.5三分钟衰减或半衰减 20.7%14.2%16.8%16.7%15.1% 25.8%半衰期为53.4s 半衰期为5.3s 48.3% 薄膜在生产加工过程中,尤其在铸片和拉伸时,会有一些低分子量的物质(包括迁移性添加剂成份)运动到膜表面,所以刚生产出来的膜就有一定的抗静电能力,但放置1-2天后,表面的这些成份挥发掉,而此时迁移性成份还没有迁移出来,所以表面的静电较大,一般一周后,部分抗静电成份迁移到表面,表现为静电减小,如果抗静电成份迁移的快,一段时间后我们可以测得膜的静电关衰期,电晕也是随着它的迁移而衰减,但当膜表面这种迁移性分子达到一定的浓度,就会出现一次大量挥发,挥发后的膜表面又会恢复与最初电晕后类似的粗糙表面,膜的抗静电性同时减弱,这就是电晕反弹的原因。 我们同样可以以27.5u光膜,未加入迁移性添加剂膜的电晕衰减为例来证明反弹的原因,如下表:测试日期 6.226.256.26 6.27 6.28 7.2 7.67.97.187.25电晕(达因)46 40 40 40 40 39 39 39 39 39 这样我们就好分析上述5例了,也就是电晕衰减越快,则其抗静电成份就会在电晕衰减的同时一点点挥发掉,而衰减慢的膜表面则会形成积累挥发。而上后,最初的1-2天内电晕衰减的最快,然后慢慢衰减,在这么短的时间内抗静电成份还未迁移出来。膜内外极性基团运动的也不会太快,那么电晕衰减快的主要原因只有膜本身的应力恢复过程。 6.结论: 经过多组膜的电晕测试及分析,我们知道膜表面张力的变化与电晕处理强度、生产速度、环境温度、原料配方、选用原料、薄膜厚度均有关系,该结论是经实验得出,可能存在片面性,如各界人士存其它意见,还需共同探讨。(完)
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