先进测量设备制造商n&k科技公司宣布通过附加薄膜已经解决了对光罩进行精确光测量所遇到的问题。n&k科技公司的解决方案包括一个比较基线技术（正在申请专利），该技术把已知和未知的物体同步反射（R）和发射（T）测量法与去除原始数据薄膜效应相结合。这个创新的方法支持n&k科技公司现有测量方法，就像没有薄膜一样。 光罩供应商一般都在光罩上放置一个加外框隔膜的薄膜，以便在光罩制造流程最后步骤后对其进行保护。在这点上，非常值得对光罩品质，如槽深、CD、特性以及底片厚度、n and k的价值、堆积在未去除薄膜的光罩上的原料周相移动（例如MoSiON）进行测量。以前，通过一层薄膜进行此类测量会导致原始数据的明显改变。有了n&k科技公司的新技术，可以对能够看到的有一层薄膜的产品进行精确测量。 n&k科技公司的光“反射发射（RT）”系统，如最近推出的n&k 5700-CDRT，都是基于对反射和发射的同步测量，已被用于只需一个步骤就可测量上面提到的没有薄膜的光罩的品质。不过，通过一层薄膜进行的反射和发射的此类光测量可产生无数的干扰带，使分析变得复杂。n&k科技公司采用的比较基线技术解决了光测量薄膜光罩所遇到的该问题。 n&k科技公司首席执行官兼总裁Rahim Forouhi博士说：“这个针对薄膜光罩新的测量解决方案现在可以作为n&k 5700-CDRT产品的一种选择予以提供。”他补充说：“目前，一些专门供应光罩原料及半成品的半导体公司已经定购了该产品。该产品将于2006年第三季度推出。” 关于n&k科技公司 位于加利福尼亚州桑塔克拉拉的n&k科技公司为半导体、光罩、平板显示器以及数据存储行业生产先进的度量衡工具。公司的高分辨率光测量仪器被用于胶片厚度、n and k、周相移动、槽深、CD和品质的测量。该核心技术基于拥有专利的反射光学DUV-Vis-NIR宽带吸光光度法结合Forouhi-Bloomer色散方程和严格耦合波分析。n&k科技公司的设备从桌面式产品到全自动系统，是业界业已证明的、有生产价值的、快速、准确和非破坏性产品，支持用户客观描述所有薄胶片、感光底层和建筑物。
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