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PS版与胶印印版制作

2007/11/5 8:37:22 人评论

.PS版(版材)的分类、结构及性能
1. PS版材的分类:
——阳图型PS版:用阳图分色片进行晒版的PS版,
         其感光膜在紫外线照射下产生光分解反应。

——阴图型PS版:用阴图分色片进行晒版的PS版,  
        其感光膜在紫外线照射下产生光聚合反应。
  分为版基、氧化层、感光膜层
2.PS版材的结构:
——版基:铝金属版基。通常有0.25mm、0.15mm两
   种厚度。
——氧化层:即亲水层,是通过阳极氧化和封孔工艺,
   在版基一侧形成多孔、坚硬的氧化层。有较强的
   耐磨、耐蚀、吸水性。
——感光膜层:即亲油层,由感光剂(氮醌化合物)、
           成膜性树脂、染料、溶剂等组成。
3.PS版主要性能指标:
——表面粗糙度:0.40≤Ra ≤0.90(um)
——版基面氧化层质量:1.50 ~3.50(g/m2 )
——版基面感光层质量:1.60~2.50 (g/m2 )
——分辨率:≤10.0(um)
——网点再现范围:2%~98% 网点齐全
——版基底色密度:≤0.03
——感光度: ≤300 (mj/cm2 )
——留膜率:≥90%
——印版厚度:0.15~0.40mm(厚度偏差?0.01mm)
——印版尺寸:符合GB/T 17155-1997
——耐印力:未定
注:影响印版耐印力的主要因素
   ①PS版感光膜附着力
   ②分色片实地密度
   ③印刷压力
   ④纸张含杂质(砂粒)量
   ⑤润版液Ph值


二.胶印印版制作(晒版)工艺流程

分色片输出→曝光→显影→修版→后处理→印刷
——曝光:是把分色片与PS版药膜面紧密接触,用紫外线光源(如碘镓灯)(光谱范围约

360~430毫微米)进行曝光。
——显影:是把(经曝光)产生光分解反应的(非印刷区域)感光膜,在稀碱溶液中溶解,露出

氧化(亲水)层。
——修版:把经水洗后的印版,用除脏剂(由相关溶剂、增浓剂、染料、润湿剂等组成)进行修

版除脏作业。

——后处理:包括烘干、烤版、提墨、擦胶等。

 ·烤版:主要是为了提高印版的耐印力。在230℃~250℃温度下烤版5~8分钟。
 ·提墨:为提高版面图文部分的反差(便于检查)、保护图文印刷部分的感光膜不受光的损害

、增加印版的吸墨性,在版面涂以提墨剂。
 ·擦胶:为保护制作好的印版,防止氧化和灰尘污染,在版面涂擦护版胶(如阿拉伯树胶)。

三. 对分色片质量的要求

——片基灰雾密度≤0.15
——实地密度≥3.50
——通透性:网点透明部分密度(不包括片基)        ≤0.10
——网点边缘宽度≤网线宽度/40(um)
——软片线性化误差≤±2%
——套准误差(对角线)≤0.02%
——版面清洁、无划痕、折痕等 

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